• 关于平台
  • 联系我们
  • 成为会员
  • 会员登录
    • 最新发布
    热点洞察
    研究报告
    市场数据

    成为会员

     

    最新

    洞察

    报告

    数据
    1. 洞察
    2. >
    3. 半导体IC
    4. >
    5. 热点分析：2026年，LSI计划量产17nm FinFET工艺 CIS

    相关链接

    热点分析：2026年，LSI计划量产17nm FinFET工艺 CIS

    发布时间: 2024/10/20 关注度: 111

    ①据悉，Samsung foundry欲将17nm FinFET工艺用于CIS的logic层，计划开发超低功耗的大底CIS。

    ②根据目前的计划，2026年LSI CIS将会首先量产，50M(1/1.1")/200M(1/1.1")sensor.

    ③与此同时，Samsung foundry也希望在中国大陆寻找客户来此投片17nm FinFET工艺的CIS。

    Copyright©2021 Sigmaintell www.sigmamirror.com Rights Reserved     京ICP备10214676号-3

    X
    平台会员权益
    • 企业账户共享：企业会员账户可多人共享，满足团队使用需求；
    • 内容产品下载：获取所关注领域的上下游全产业链信息，使用积分下载各类研究内容，并享受最低价格；
    • 免费内容获取：免费阅读下载平台不定期发布的市场热点分析、市场动态简报、总结预测、价格风向标数据等内容；
    • 增值会员服务：会员用户将收到平台内容更新通知，直达所需内容；更多会员权益不定时增加。

    提交右侧信息，了解更多会员服务方案；

    或直接联系我们：

    +86 151-0168-2530